フォトマスク関連データ

フォトマスク材料の特性について

フィルムマスク、エマルジョンマスク、クロムマスクについて、ベース基材、厚み、乳剤、乳剤厚み、温度湿度変化による伸縮について表したものです。当社の標準的な仕様を中心にご案内させていただきます。用途にあった材料をお選び下さい。

フィルムマスク エマルジョンマスク クロムマスク
基材 ベース基材 ポリエステル ソーダ ソーダ 石英
厚み 175(μm) 2.3　5.0(mm) 2.3　3.0　4.8(mm) ご相談
サイズ ～650*780(mm) ～914*1473(mm) ～1250*2100(mm) ご相談
温度1℃による変化 0.001(％／℃) 0.00081(％／℃) 0.00081(％／℃) 0.00005(％／℃)
同上(1m換算) 10.0（μm／℃） 8.1(μm／℃) 8.1(μm／℃) 0.5(μm／℃)
相対湿度1％による変化 0.0014(％) － － －
同上(1m換算) 14.0（μm／％） 0 0 0
遮光膜 材質 銀塩乳剤(ラス) 銀塩乳剤(ハイレゾ) クロム薄膜 クロム薄膜
膜厚 6～8(μm) 6～8(μm) 850～1150(Å) 850～1200(Å)
解像性　(最小ライン幅) 20.0(μm) 10.0(μm) 5.0(μm) 5.0(μm)
特徴 膜強度 △ △ ◎ ◎
フリンジ ○ ○ ◎ ◎
描画精度範囲 - エッジより20mm内側 ガラスエッジより40mm内側 ガラスエッジより40mm内側
32x43インチ以上のクロム薄膜の均一性 - - ガラスエッジより25mm内側 ガラスエッジより25mm内側
32x43インチ以上のレジスト塗布の均一性 - - ガラスエッジより40mm内側 ガラスエッジより40mm内側
長所 軽量、扱いが容易 温湿度変形が少ない 膜強度大
超大型サイズ有り		 膜強度大
熱膨張率極小
コスト比較 ◎ ○ ○ ×
用途（主なもの） PWB、一般 PWB LCD LSI、LCD

現在稼働中の描画装置

ソノコムで稼働中の主な描画装置です。フィルムからクロムまで高品質のフォトマスクをお届けします。

1．機種

メｰカｰ名 機種名
Ucamco社 calibr8tor 2500HD
(株)SCREENホールディングス FR8500LS VIOLD

2．機種別描画対象物と対応データ種別

メｰカｰ名 機種名 対応処理 描画対象物
フィルム ラス-ガラス HRP クロムマスク
Ucamco社 calibr8tor 2500HD PHOTO ラス
(株)SCREENホールディングス FR8500LS VIOLD
ファインモード		 PHOTO ○ ○

3．仕様

メｰカｰ名 機種名 描画範囲 ビーム径 分解能 繰返精度 最小線幅 最小線間
Ucamco社 calibr8tor 2500HD 680x780 0.0032 0.0015 ±0.002 0.030 0.030
〃 〃 〃 0.0032 0.00125 ±0.002 0.020 0.020
〃 〃 〃 0.0032 0.001 ±0.002 0.010 0.010
(株)SCREENホールディングス FR8500LS VIOLD
 1300x2100 0.004 0.0005 ±0.001 0.010 0.010
〃 〃 〃 0.002 0.00025 ±0.001 0.006 0.006
〃 〃 〃 0.001 0.000125 ±0.001 0.004 0.004
単位(mm)

※ビーム径、分解能、繰返精度、最小線幅、最小線間の数値は、装置自体の仕様です。（マスク出荷時の仕様とは異なります。）