データ作成から描画・検査まで先進の機器と環境が高品質のフォトマスクを作り出します。
遮光膜の強度が強いため大型FPDの量産用のマスクとして使われます。基材を石英にする事により更に寸法を安定させることができます。
ガラスを基材にしているため、温度の管理のみで寸法が安定します。細線の再現性にも優れています。
ベーシックなフォトマスクです。軽量で扱いが容易ですが、温湿度の影響には注意が必要です。
以下をご案内しています。 フォトマスク材料の特性について 現在稼働中の描画装置
